La visita del PNUD y de FECO nos inspira a contribuir más a la protección del medio ambiente
La semana pasada, el coordinador residente de la ONU y representante residente del PNUD, Nicholas Rosellini, y el Sr. Xiao, subdirector de FECO, visitaron USEON. Durante la visita les presentamos nuestros logros en la eliminación de los HCFC en la producción de XPS y nuestros últimos avances en la tecnología de espumado con CO₂. Quedaron impresionados por nuestras iniciativas en la línea de producción de placas XPS espumadas con CO₂. Reconocieron lo que hemos hecho para eliminar los HCFC en las líneas de producción de XPS, tanto en China como en el resto del mundo, y manifestaron su deseo de que hagamos una contribución aún mayor a la protección del medio ambiente y a la cooperación Sur-Sur.
Sin duda, su visita nos animará a poner aún más entusiasmo y esfuerzo para hacer del mundo un lugar mejor.
