Visita do PNUD e do FECO nos inspira a contribuir ainda mais para a proteção ambiental

Na semana passada, o coordenador residente da ONU e representante residente do PNUD, Sr. Nicholas Rosellini, e o Sr. Xiao, vice-diretor do FECO, visitaram a USEON. Durante a visita, apresentamos nossos resultados na eliminação dos HCFCs na produção de XPS e nosso mais recente desenvolvimento em tecnologia de expansão com CO₂. Eles ficaram impressionados com nossas iniciativas na linha de produção de placas de XPS com CO₂ e reconheceram o que temos feito pela eliminação dos HCFCs em linhas de produção de XPS, tanto na China quanto no resto do mundo. Eles manifestaram a expectativa de que façamos uma contribuição ainda maior para a proteção ambiental e para a cooperação Sul-Sul.

Essa visita certamente nos inspira a dedicar ainda mais entusiasmo e esforço para tornar o mundo um lugar melhor.